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思邁奧 SMA-VMD10 高真空鍍膜指紋熏顯柜

產(chǎn)品分類:思邁奧熏顯柜
產(chǎn)品簡介:MA-VMD10 高真空鍍膜指紋顯現(xiàn)系統(tǒng)能在極高真空環(huán)境中,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),應用氣體放電使靶材蒸發(fā),使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,同時,利用電場的加速作用,使被蒸發(fā)的物質(zhì)和反應產(chǎn)生的沉積物吸附在客體上。由于蒸發(fā)的靶材特性各異以及遺留在客體表面的沉積物狀況的不同,使得指紋(手印) 紋線和客體背景之間形成反差,從而達到指紋(手印)指紋的理想顯現(xiàn)目的。
咨詢熱線:400-600-2898

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一、產(chǎn)品概況:

SMA-VMD10 高真空鍍膜指紋顯現(xiàn)系統(tǒng)能在極高真空環(huán)境中,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),應用氣體放電使靶材蒸發(fā),使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,同時,利用電場的加速作用,使被蒸發(fā)的物質(zhì)和反應產(chǎn)生的沉積物吸附在客體上。由于蒸發(fā)的靶材特性各異以及遺留在客體表面的沉積物狀況的不同,使得指紋(手印) 紋線和客體背景之間形成反差,從而達到指紋(手印)指紋的理想顯現(xiàn)目的。

本產(chǎn)品采用高真空鍍膜技術(shù)顯現(xiàn)手印指紋,適用性廣,極大地提高了顯現(xiàn)率,對大部分非滲透性、半滲透性客體都適用。如光面皮革、塑料、絲綢、布料、陶瓷油漆面、電鍍面、玻璃、紙張、照片等,對陳舊手印、浸水指紋以及油脂手印、汗混合指紋、血潛指紋等疑難客體上手印的顯現(xiàn),更有其他方法無法替代的優(yōu)勢,且在使用其他傳統(tǒng)方法顯現(xiàn)無果后,仍可采用真空鍍膜顯現(xiàn)獲取。特別是經(jīng)鍍膜顯現(xiàn)的指紋不影響后續(xù)的DNA提取, 是刑偵部門理想的勘察設(shè)備之一。

 

二、功能特點:

立柜式一體化設(shè)計:無外置部件, 結(jié)構(gòu)緊湊, 就位后即可運行;

人性化設(shè)計:系統(tǒng)采用10英寸嵌入式大屏彩色液晶智能觸摸屏及工業(yè)級微機, 全中文引導菜單, 運行速度更快, 存儲數(shù)據(jù)強大, 各數(shù)據(jù)顯示簡明快捷,實現(xiàn)了人機對話及系統(tǒng)工作狀態(tài)顯示;

真空室:為圓柱型造型,符合高真空受力均勻、壓強小的原理,確保超高真空度和經(jīng)久耐用。產(chǎn)品采用優(yōu)質(zhì)304不銹鋼制作,內(nèi)表面作拋光處理。超大視窗,內(nèi)置LED照明系統(tǒng),能實時清晰觀察顯現(xiàn)全過程;

真空室物證載物臺:采用道軌滑輪抽垃式弧面形狀,方便取放檢材,對特殊檢材配有可拆卸掛件及可擴、縮口徑的旋轉(zhuǎn)載物柱,其轉(zhuǎn)速與蒸發(fā)電離頻率吻合,鍍膜更均勻, 顯現(xiàn)更清晰;

配置三組蒸發(fā)源:在一次抽真空的狀況下,可進行多次鍍膜,并自動調(diào)整對應的真空度和蒸發(fā)電流,以滿足最佳鍍膜要素,確保指印清晰顯現(xiàn);

采用科學合理的抽真空系統(tǒng):使真空室內(nèi)的最高真空度可達9X10-4Pa(9X10-7 mbar);

配備高性能復合真空計:能精準測量真空室內(nèi)的真空度,確保真空度準確可靠,滿足優(yōu)異的顯現(xiàn)條件;

電子控制系統(tǒng):具備真空抽氣、蒸發(fā)電流、載物轉(zhuǎn)臺、充放氣閥、水壓不足、突發(fā)斷電、操作失誤等保護裝置。經(jīng)PLC及真空測量實現(xiàn)順序操作, 具有連鎖保護功能和全自動功能;

快速鍍膜:單次真空鍍膜全過程(含抽真空和鍍膜時間)≤10分鐘(提高顯現(xiàn)率20%~70%);

廣泛的靶材選擇: 可蒸發(fā)金、銀、銅、鋅、鋁、鎳、銦等金屬及合金(根據(jù)需要選擇);

操作模式: 自動/半自動/手動;

具備內(nèi)置式循環(huán)冷卻功能;

具備鑰匙和秘碼輸入雙模式開機:有效防止他人誤操作;

具備網(wǎng)絡(luò)和USB接口:后期能進行軟件升級,遙控操作及運行數(shù)據(jù)導引;

具備故障報警功能:任何故障, 均有聲、光自動報警;

具備斷電應急功能:如發(fā)生斷電,可手動取出檢材。

 

三、技術(shù)規(guī)格:

超大視窗: Ф500mm;

嵌入式大屏彩色液晶智能觸摸屏:10英寸;

孤形載物臺面積:860×500mm;

極限真空度: 9X10-4Pa(9X10-7 mbar);

恢復真空抽氣時間:從大氣抽至5×10-3Pa≤5min,優(yōu)于滿鍍金真空度;

鍍膜顯現(xiàn)時間:單次真空鍍膜全過程(含抽真空時間)≤10分鐘;

不影響后期DNA提?。赫婵斟兡わ@現(xiàn)后的指紋, 仍可提取DNA;

物證顯現(xiàn)面積:最大820mm(長)× 400mm(寬);

三組蒸發(fā)源:分別可蒸發(fā)金、鋅、鋁、銅、鎳等金屬靶材;

道軌抽拉式物證載臺及物證載物支架,旋轉(zhuǎn)速度可調(diào);

二級機械泵和復合分子泵抽真空系統(tǒng);

內(nèi)置式水冷循環(huán)和風冷系統(tǒng);

操作模式:全自動/半自動/手動;  

工作電壓:220V/50Hz,總功率:6KV;

外形尺寸:750mm(寬)×1240mm(深)×1600mm(高);

真空室尺寸:Ф480X550mm,容積:100升;

總重量:500 KG




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